20nm工艺 三星流片世界最先进半导体芯片
日期:2011-07-18 10:27
 据悉,三星电子近日宣布,其最新的20nm工艺试验芯片的流片已经成功,这也是目前业内最先进的半导体制造工艺。

  三星电子此番利用了美国加州电子设计自动化企业CadenceDesignSystems提供的一体化数字流程RTL-to-GDSII.这套基于Encounter的流程和方法完全能够满足三星20nm试验芯片从IP集成到设计验证的复杂需求,包括Encounter数字部署系统、EncounterRTL编译器、Incisive企业模拟器、Encounter电源系统、QRCExtraction提取工具、Encounter计时系统、Encounter测试与物理验证系统、Encounter NanoRoute路由等等。

  三星的试验芯片
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