LED芯片制造设备现状及其工艺介绍
日期:2011-05-31 17:14
状态:待解决
提问:admin
便捷的人机交互操作界面也是面向大生产线设备必备的条件。而北方微电子所开发的ELEDETM330刻蚀机,集成了多项先进技术,用半导体刻蚀工艺更为精准的设计要求来实现LED领域更高性能的刻蚀工艺,完全满足大生产线对干法刻蚀工艺的上述要求。
2、光刻工艺及设备
光刻工艺是指在晶片上涂布光阻溶液,经曝光后在晶片上形成一定图案的工艺。LED芯片生产中通过光刻来实现在PSS工艺中形成刻蚀所需特定图案掩模以及在芯片制造中制备电极。LED光刻工艺主要采用投影式光刻、接触式光刻和纳米压印三种技术。接触式光刻由于价格低,是目前应用主流,但
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