日期:2011-05-31 17:14
状态:待解决
提问:admin
着PSS衬底普及，图形尺寸精细化，投影式光刻逐渐成为主流。纳米压印由于不需光阻，工艺简单，综合成本较低，但由于重复性较差，还处于研发阶段。
表2 LED上中游刻蚀设备的应用
国内LED生产用接触式光刻机主要依赖进口，投影式光刻机多为二手半导体光刻机翻新。而鉴于国内光刻设备生产企业的技术基础和在翻新业务中取得的经验积累，相信假以时日开发出国产的LED光刻设备的前景一片光明。纳米压印是通过模版热压的技术制备纳米级图形，在美国、台湾等均有较深入的研究，工业化应用还不成熟，但仍存在较大的应用潜力。
3、蒸镀工艺及设备
蒸
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