日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
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中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称中微）于本周发布了面向22纳米及以下芯片生产的第二代300毫米甚高频去耦合反应离子刻蚀设备 -- Primo AD-RIE?.基于已被业界肯定的 Primo D-RIE? 刻蚀设备，中微 Primo AD-RIE 应用了更多技术创新性来解决高端芯片复杂生产过程带来的挑战，同时保证了芯片加工的质量。这些技术创新包括：先进的射频系统保证了刻蚀过程的稳定性和可重复性，更好的调谐能力确保了超精细的关键尺寸均匀度，更优异的反应室内壁材料以降低缺失来提高产品良率。
同前一代产品类似，同行业标准相比，Primo AD-RIE 实
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