日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
提问:admin
现了35%到50%的资本效率增益，总体拥有成本降低20%至40%,更加紧凑的产品设计 -- 占地面积比同类最大设备小至少30%,这些都使得 Primo AD-RIE 成为当前半导体设备市场上最高产出率、最低生产成本的先进刻蚀设备。
产品将于今年第三季度付运。第一台 Primo AD-RIE 将进入亚洲一流芯片代工厂。中微 Primo D-RIE 设备将继续用于22纳米以上的芯片刻蚀加工和部分22纳米以下刻蚀工艺的加工。
对于芯片厂，中微新设备投放市场的时机同样是他们面临挑战的时刻。各晶圆厂持续扩大规模和新材料的整合带来了技术上的障碍，而不断攀升的资本支
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