中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备
日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
提问:admin
的关键工艺加工带来了技术创新和生产力提高的最优化,客户可以采用更进取的工艺策略,而不必担心会以生产效率为代价。新老客户都对我们的产品表示了极大的兴趣。

  Primo AD-RIE 基于 Primo D-RIE,具有更多突破性技术创新

  Primo AD-RIE 在促进中微第一代刻蚀设备技术创新的同时,又大大扩大了其自身的加工领域。该设备的主要部分是一组创新的少量反应台反应器的簇架构,可以灵活地装置多达三个双反应台反应器,以达到最佳芯片加工输出量。每个反应器都可以实现单芯片或双芯片加工。独特的反应器腔体设计融合了中微专有的等离子体
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