日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
提问:admin
聚焦和喷淋头技术，确保了芯片加工的质量。Primo AD-RIE 的一些基本特征使其更具备28纳米以下关键刻蚀加工的能力，这些基本特征包括：除了已有的60兆赫兹射频以外，2-13.5兆赫兹可切换射频使 Primo AD-RIE 加工范围更加广泛，独特的射频输入和对称分布改善了等离子密度的均匀分布，三区气体分布和双调谐气体提高了刻蚀的均匀度和调谐性，静电吸盘双区冷却装置提高了晶片温度的可调性并极大改善了晶圆片的刻蚀均匀度。
系统特点和优势：
1、去耦合反应离子刻蚀实现了离子浓度和离子能量的独立控制；
2、独特的甚高频射频输
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