日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
提问:admin
和对称分布可在大批量生产环境中仍能确保实现重复性结果的精准控制；
3、具有自主知识产权的等离子体聚焦使刻蚀过程更为稳定可靠，有更宽泛的工艺窗口；
4、每个反应台独立的射频发生器、各反应台均匀度的分别控制和刻蚀终点控制，使每片晶圆可以在独立的反应环境中被刻蚀处理；
5、从底部供能的高频射频提供了稳定、低压、高密度度的等离子体，保持 low-k 材料的完整性；
6、具有自主知识产权的、具有快速、稳定、可靠的调谐能力的自隔离射频匹配装置；
7、反应腔内壁选用高纯度、耐等离子特殊材料，开发了最佳
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