中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备
日期:2011-07-12 13:48
状态:待解决
提问:admin
的材料加工过程，大大降低了损耗，将杂质微粒数降到最低；

　　8、电阻上电极直接加热处理的闭环控制为持续的芯片加工过程提供了精确、快速的温度控制；

　　9、双反应台反应器的簇架构，可配置多达六个单芯片加工反应台，即在较小的占地面积上获得很高的输出量；

　　10、模块化的系统架构使安装和维护操作更简便。
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