日期:2011-04-13 15:13
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光刻工艺是指在晶片上涂布光阻溶液，经曝光后在晶片上形成一定图案的工艺。LED芯片生产中通过光刻来实现在PSS工艺中形成刻蚀所需特定图案掩模以及在芯片制造中制备电极。LED光刻工艺主要采用投影式光刻、接触式光刻和纳米压印三种技术。接触式光刻由于价格低，是目前应用主流，但随着PSS衬底普及，图形尺寸精细化，投影式光刻逐渐成为主流。纳米压印由于不需光阻，工艺简单，综合成本较低，但由于重复性较差，还处于研发阶段。
表2 LED上中游刻蚀设备的应用
国内LED生产用接触式光刻机主要依赖进口，投影式光刻机多为二手半导体光刻机翻新
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